Primo UD-RIE?是中微公司基于完全自主的知識(shí)產(chǎn)權(quán)開發(fā)的12英寸高端電容耦合等離子體（CCP）刻蝕機(jī)。針對(duì)存儲(chǔ)器件制造中最關(guān)鍵的高深寬比介質(zhì)刻蝕工藝， Primo UD-RIE? 配備了具備多級(jí)脈沖功能的超低頻大功率射頻系統(tǒng)，有效提高離子能量和準(zhǔn)直性；強(qiáng)化了上電極冷卻和加熱設(shè)計(jì)，并采用耐高擊穿電壓的靜電吸盤滿足大射頻功率下的工藝需求；可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)溫度切換和分區(qū)冷卻的下電極在擴(kuò)大工藝窗口的同時(shí)提升晶圓邊緣刻蝕表現(xiàn)； 優(yōu)化的腔體涂層適配新型腐蝕性刻蝕氣體，有效擴(kuò)大工藝窗口。 Primo UD-RIE? 還配備了中微公司首創(chuàng)的主動(dòng)邊緣阻抗調(diào)節(jié)系統(tǒng)，突破了傳統(tǒng)的晶圓邊緣等離子體殼層的調(diào)節(jié)方式，極大地提升了設(shè)備的量產(chǎn)性能。Primo UD-RIE?可配置最多六個(gè)單反應(yīng)臺(tái)刻蝕反應(yīng)腔和兩個(gè)去膠反應(yīng)腔，為高深寬比刻蝕提供靈活的解決方案。 Primo UD-RIE? 在存儲(chǔ)器件制造中的高深寬比深孔及溝槽刻蝕上表現(xiàn)優(yōu)異，已經(jīng)在先進(jìn)生產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。