Primo SSC AD-RIE?是中微于2013年推出的單反應(yīng)臺電介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品，在Primo AD-RIE?產(chǎn)品技術(shù)和Primo平臺概念的基礎(chǔ)上，通過在一個平臺上集成六個單反應(yīng)臺以優(yōu)化產(chǎn)能。除了可獨立輸運氣體的單反應(yīng)臺腔體設(shè)計以外，為應(yīng)對2x納米以下特別是接觸孔刻蝕等關(guān)鍵制程的挑戰(zhàn)，該設(shè)備還具有以下特性：同步脈沖射頻系統(tǒng)、可冷卻聚焦環(huán)工藝組件和甚低壓氣體抽運系統(tǒng)等。Primo SSC AD-RIE有利于處理多層薄膜刻蝕的微負(fù)載問題、極端邊緣形貌問題以及接觸孔刻蝕的終端控制問題。Primo SSC AD-RIE已在主流客戶16納米芯片生產(chǎn)線上穩(wěn)定量產(chǎn)。